《科创板日报》20日讯，熟悉三星内部计划的人士透露，三星电子将于2023年底开始量产光罩护膜（Pellicle），此举将加速其采用EUV工艺的DRAM生产进程。据THE ELEC报道，知情人士指出，三星极有可能使用ASML合作伙伴三井化学制造的光罩护膜。ASML在2019年宣布同意将EUV光罩护膜组装技术授权予日商三井化学，在未来持续与合作伙伴共同开发下一代光罩护膜。（小K注：使用光罩护膜最主要有两种目的，其一为增加芯片生产良率，其次是减少光罩在使用时的清洁和检验，有效提高产量）